全自动实验室洗瓶机
永合创信全自动实验室洗瓶机，可360度全方位多角度对物品进行冲洗、消毒、干燥。通过微电脑控制技术，以PLC系统控制温度、时间并配以专用的清洗剂、中和剂等对各种实验室玻璃器皿、手术器械、牙科手机、电路板等物品的内外表面附着物进行清洗、消毒和干燥处理。清洗机北
Wellwash Versa 洗板机
Wellwash Versa 为一款便于使用的洗板机，其图形用户界 面、八种语言版本及USB 端口为用户提供极大的便捷性。 Wellwash Versa为Wellwash的高级型号，除用于清洗96孔板，亦可用于清洗细胞 和384孔板，为科研应用提供更高的灵活性。
制药专用洗瓶机
Flash-2/F2实验室全自动洗瓶机，三层清洗独立式安装，可连接自来水和纯水两种水源，正常清洗流程为先用自来水和清洁剂进行加热主洗，然后用纯水对清洗物品进行漂洗，当您需要对清洗器皿或器具有烘干要求时，请选用Flash-F2型号； Flash-2/F2实验室器皿清洗机将带给您方便
清洗器
产品型号 SD9200H超声功率（W） 500加热功率（W） 600容量（L） 30槽内尺寸（mm)L×W×H 500×300×200外形尺寸（mm)L×W×H 570×330×380超声频率（KHz） 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格（元） 17300
JK数控超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于工矿企业、大专院校、科研单位的腐粘性较强及高难度的清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉积系统（深反应离子刻蚀、刻蚀及沉积、低温等离子体增强、化学气相沉积、等离子处理系统）
感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉积、深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）、BM8-III 感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉积系统高性能深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）等离子处理系统